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测量方式:      

全自动(标配质量流量控制器,全程电脑控制,初始设定开始实验后,直接得到结果。全功能化学吸附仪)

温度保护:

有,所有阀门通路、TCD探测器和管线均处于150恒温,处于完全的热跟踪、温度控制和绝热状态。

测量原理:

流动吸附/解吸量测定

浓度检测器:

4元素热导检测器(TCD

吸附气体:      

H2, O2, CO, N2, NO, NH3

 

 

分析应用:

 

TPD,也称为TDS:

程序升温脱附,吸附了探针分子的样品,程序控制温度升高,加热使探针分子脱附,然后被TCD检测器探测得到相关曲线,来表征化学吸附的相对强度。该方法常用来测定酸性或碱性吸附质上活性部位的数量和分布。

 

TPR

程序升温还原,根据消耗的氢气量和逐渐增加的温度得到相关谱图,测量金属氧化物还原难易程度的直接方法,也常用来计算活化能。

 

TPO

程序升温氧化,常用来检测TPR实验的精确性,也用于评价碳和氧化催化剂。

 

脉冲滴定:

定量的氢气或者CO被反复通到金属表面直到化学吸附达到饱和状态,用于测定金属分散度、活性金属面积、平均纳米簇粒径的典型方法。

 

单点BET法:

快速单点BET吸附测定表面积。

 

温度范围:-70 - 1100

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